A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
出了一种基于二维器件模拟的深亚微米工艺外延
衬底的电阻宏模。
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A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种
维器件模拟的深亚微米工艺外延
衬底的电阻宏模。
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A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
要提出了一种基于二维器件模拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻宏模。
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A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件模拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻宏模。
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A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出
基于二维器件模拟的深亚微米
艺外延衬底的电阻宏模。
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A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件模拟
深亚微米工艺外延
电阻宏模。
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宏
模式
模式A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件模拟深亚微米工艺外延衬底电阻宏模。
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式A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件
拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻
。
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