Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是高纯水蒸汽为氧化气氛,由
片表面
子和水分子反
生成二氧化
。
Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是高纯水蒸汽为氧化气氛,由
片表面
子和水分子反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧是以高纯水蒸汽为氧
气氛,由
片表面的
水分
反
生成二氧
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由面的
原子和水分子反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽是以高纯水蒸汽
气氛,
硅片表面的硅原子和水分子反
生成二
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片
硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽以高纯水蒸汽为
气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反
二
硅。
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