This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特性可以研究晶
管结温分布的不均匀性，计算结温分布的不均匀度，对半导器件可靠性分析具有重要的意义。
bàn dǎo tǐ qì jiàn
- semiconductor device
- semiconductor apparatus
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- semiconductor device
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This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特
研究晶管结温分布的不均匀，计算结温分布的不均匀度，对半导器件靠分析具有重要的意义。
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- semiconductor device
- semiconductor apparatus
This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特性可以研究晶
温
布的不
匀性，计算温布的不匀度，对半导器件可靠性析具有重要的意义。
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This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特性以研究晶管结温分布的不均匀性，计算结温分布的不均匀
，
导器件
性分析具有重要的意义。
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This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特可以研究晶管结
的不均匀，计算结的不均匀度，对半导器件可靠析具有重要的意义。
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This phenomenon is called the excessive thermotaxis effect of low current.Based on these characteristics, the uniformity of the junction temperature distribution is studied.
利用这一特性可以研究晶管结的不均匀性，计算结的不均匀度，对半导器件可靠性析具有
的意义。
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利用这一特以研究晶管结温分布的不均
，计算结温分布的不均，半导器件分析具有重要的意义。
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利用这
可以研究晶管结温分布的不均匀，计算结温分布的不均匀度，对半导器件可靠分析具有重要的意义。
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