A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件模拟
深亚微米工艺外延
衬底电阻宏模。
宏
模式
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宏观
式
式A resistance macromodel for deep-submicron process epi-type substrate based on the 2D device simulation is presented.
摘要提出了一种基于二维器件
的深亚微米工艺外延衬底的电阻宏。
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摘要提出了一种基于二维器件模拟的深亚微
外延衬底的电阻宏模。
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摘要提出了一种基于二维器件模拟的深
工艺外延衬底的电阻宏模。
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摘要提出了一种基于二维器件模拟深亚微米工艺外延衬底
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摘要提出了一种基于二维器件模拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻
模。
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摘要提出了一种基于二维器件拟的深亚微米工艺外延衬底的电阻。
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摘要
一种基于二维器件模拟的深亚微米艺外延衬底的电阻宏模。
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