Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水是以高纯水蒸
为
气氛,由硅片表面的硅原子和水
子反
生
二
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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水汽是以高纯水蒸汽
气氛,
硅片表面的硅原子和水分子反
生成二
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧是以高纯水蒸汽为氧
,由硅片表面的硅原子和水
子反
生成二氧
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是高纯水蒸汽为氧化气氛,由
片表面
子和水分子反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
氧化是以高纯
为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和
分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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