Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原和水
氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由片表面的
和水分
反
生成二氧化
。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原和水分
二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化气氛,由硅片面的硅原子和水分子反
生成二氧化硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽以高纯水蒸汽为
气氛,由硅片表面的硅原子和水分子反
二
硅。
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Thewater vapor oxidation is take the high pure water steam as theoxidizing atmosphere, responds the production silicon dioxide by thesilicon chip surface silicon atom and the hydrone.
水汽氧化是以高纯水蒸汽为氧化,
硅片表面的硅原子和水
子反
生成二氧化硅。
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