Using electrode interface capacitance and surface coverage to investigate the formation kinetics of NS monolayer in hexahydrobenzene solvent.
通过自组
修饰金电极的界面
电电容和膜的覆盖率考察了NS在环己烷中自组膜的成膜动力学。
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组修饰金电极的界面微分充电电容和膜的覆盖率考察了NS在环己烷中组膜的成膜动力学。
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通过自组修饰金电极的界面微分充电电容和膜的覆盖率考察了NS
烷中自组膜的成膜
。
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通过自组修饰金
极的界面微分容和膜的覆盖率考察了NS在环己烷中自组膜的成膜动力学。
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通过组修饰金
界面微分充容和膜覆盖率考察了NS在环己烷中组膜成膜力学。
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通过组修饰金界面微分充容和膜覆盖率考察了NS在环己烷中组膜成膜力学。
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通过
修饰金电极界面微分充电电容和
覆盖率考察了NS在环己烷
动力学。
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通过自组修饰金电极的界面微分充电电容和的覆盖率考察了NS在环
自组的力学。
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